Учёные из НИФТИ ННГУ совместно с коллегами из Красноярского института физики им. Л.В. Киренского СО РАН и Сибирского федерального университета продемонстрировали, что ионная имплантация полупроводниковых материалов может быть эффективной без последующего отжига. Результат исследования открывает новые технологические возможности для современной микроэлектроники.
При имплантации кристаллических полупроводников их обычно ориентируют так, чтобы большинство ионов не попадали в так называемые «каналы», которые существуют в кристаллах между цепочками атомов. Это связано с тем, что при попадании ионов в каналы трудно получить определённую глубину проникновения примесных атомов. Другая особенность традиционной имплантационной технологии — проведение отжига. При нагреве атомы вводимой примеси занимают определённые места в кристаллической решетке, где они активируются — приобретают способность захватить, или отдать электрон.
Специалисты из ННГУ провели имплантацию ионов галлия в монокристаллический кремний, не мешая ионам двигаться по каналам. А затем, не проводя отжига, использовали метод импедансной спектроскопии. Он позволяет определять энергетические уровни примесных атомов в полупроводниках, а значит и степень их электрической активности. Оказалось, что атомы галлия даже без отжига проявляют электрическую активность. Исследование опубликовано в журнале Materials Letters, который освещает передовые разработки в области материаловедения.
Алёна Никольская, одна из авторов проекта, сотрудница Лаборатории физики и технологии тонких плёнок НИФТИ ННГУ рассказывает:
«В ряде случаев отжиг нежелателен, он может ухудшить свойства материала. Поэтому результаты нашего исследования могут сыграть важную роль в производстве. Мы установили возможность легирования материалов без последующего отжига. Для этого нужно ориентировать кристалл так, чтобы максимальное количество ионов двигалось по каналам. При этом глубина, на которую проникают ионы, становится менее управляемой. Но для некоторых полупроводниковых приборов, например детекторов заряженных частиц, важно сохранить свойства материала, такие как время жизни неосновных носителей заряда на большой глубине. Исключив отжиг, мы можем сохранить этот важный параметр и тем самым повысить рабочие характеристики устройства».
Учёные планируют детально исследовать влияние условий каналирования при ионной имплантации полупроводников и проверить результативность этого подхода для ионов различных химических элементов в разных режимах ионного легирования.